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  2. Silicon(IV) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)

Silicon(IV) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.995% (metals basis)

Numero articolo: 41097.KS
Unità di misura: 1 ST
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    Sinonimi: Silicon dioxide;Silicium dioxide;Silicium (IV) oxide;Silicium-dioxide
    Produttore: ALFA (AESAR)
    Numero del produttore: 41097.KS
    Scheda di sicurezza (altre lingue su richiesta)

    Silicio biossido ≥99.995%, sputtering target, Ø 50.8 mm (2.0 in), Thickness: 6.35 mm (0.250 in)